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如何測量包含在回路中但不改變電路的接觸電阻?

更新時間:2022-04-27   點(diǎn)擊次數(shù):600次

 如何測量包含在回路中但不改變電路的接觸電阻?

  一種新方法將解決它。這種方法對于測量復(fù)雜機(jī)械裝配中的接觸電阻非常有用。接觸電阻定義為觸點(diǎn)兩端的電壓與流過一對閉合觸點(diǎn)的電流之比。它符合歐姆定律。金屬 1 和金屬 2 之間有一個接口。來自電流源的電流 I 流過這個接口,可以從電流表中讀取。然后可以從電壓表中讀取界面上的電壓降為 U。然后可以計算出接觸電阻值 Rx。

  Rx=U/I

  由于接觸電阻隨環(huán)境和電流通過而變化,因此測量條件應(yīng)與使用條件接近。精確測量必須使用四端測量技術(shù)和消除熱電動勢技術(shù)。這種間接測量方法可用于測量接觸電阻或回路電阻。它需要三個測試點(diǎn)、三個步驟和三個公式。該方法已被證實(shí)是正確的,也可用于校準(zhǔn)環(huán)路電阻標(biāo)準(zhǔn)。

  接觸電阻測試的典型方法

  四線(開爾文)直流電壓降是微歐表進(jìn)行接觸電阻測試的典型方法,它通過消除自身的接觸電阻和測試引線的電阻來確保更準(zhǔn)確的測量。

  接觸電阻測試使用兩個電流連接進(jìn)行注入,使用兩個電位引線進(jìn)行電壓降測量;電壓電纜必須盡可能靠近要測試的連接,并且始終位于連接的電流引線形成的電路內(nèi)。

  根據(jù)電壓降的測量,微處理器控制的微歐表計算接觸電阻,同時消除連接中的熱 EMF 效應(yīng)可能產(chǎn)生的誤差(熱 EMF 是兩種不同金屬連接在一起時產(chǎn)生的小熱電偶電壓)它們將被添加到測量的總電壓降中,如果不通過不同的方法(極性反轉(zhuǎn)和平均,直接測量熱 EMF 幅度等)從測量中減去它們,則會在接觸電阻測試中引入誤差。

  如果在使用低電流測試斷路器接觸電阻時獲得低電阻讀數(shù),則建議在更高電流下重新測試觸點(diǎn)。為什么我們會受益于使用更高的電流?較高的電流將能夠克服端子上的連接問題和氧化,在這些條件下,較低的電流可能會產(chǎn)生錯誤的(較高的)讀數(shù)。

  在接觸電阻測試中保持一致的測量條件非常重要,以便能夠與之前和未來的結(jié)果進(jìn)行比較以進(jìn)行趨勢分析。因此,在進(jìn)行定期測量時,必須在相同的位置、使用相同的測試引線(始終使用制造商提供的校準(zhǔn)電纜)和相同的條件下進(jìn)行接觸電阻測試,以便能夠知道何時連接、連接、焊接或設(shè)備將變得不安全。